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更新时候:2023-06-27点击次数:1728

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PID-s的力学急性子

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以下模子是由[1]提出的:

模组中来源于的(de)高场强(qiang)原因分(fen)析Na+漂(piao)移经过发展SiNx层。钠化合物(wu)在SiNx/Si介面(mian)(SiOx)竖(shu)向不(bu)(bu)集中,并(bing)装潢(huang)了(le)重重叠叠不(bu)(bu)足。pn结通过线(xian)程(cheng)池超高装潢(huang)的(de)聚(ju)积(ji)断层线(xian)的(de)弱项状态(tai)被分(f🐎en)离(li)(线(xian)程(cheng)池1),的(de),这(zhei)是因为消耗殆(dai)尽(jin)区的(de)弊端的(de)现象的(de)合拼多线(xian)程(cheng),J02带来(阶(jie)段2)。请(qing)关注着,Na亚铁离(li)子应(ying)是出自(zi)Si看上去而不(bu)(bu)再(zai)是玻璃窗。

是以(yi),控(kong)制(zhi)模块的易理性主义至(zhi)关重要(yao)决🌜定于SiNx层和钢化玻璃和EVA箔(bo)的阻值(zhi)率。


参考资料论文文献综述:

[1] V. Naumann et al., The role of stacking faults for the formation of shunts during potential induced degradation (PID) of crystalline Si solar cells, Phys. Stat. Solidi RRL 7, No. 5 (2013) 315-318

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