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瑞典弗莱贝格蓄电池片PID自(zi)测仪PIDcon bifacial手艺(yi)人
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PID-s的物理性子
🙈电(dian)势诱惑退步(PID)是在晶胞硅(gui)插件中查看到(dao)的(de)较高概率的(de)退步美景的(de)一(yi)种(zhongಌ)。在领(ling)悟并轨型(xing)PID(PID-s)的(de)基(ji)础管理机制方向已拿到(dao)了有很大停(ting)顿。
PID-s的力学急性子
在场所,版块(kuai)中的(de)前窗户(hu)玻璃外(wai)表面(mian)和太阳什(shen)么的(de)光能干ꩲ(gan)电(dian)(dian)芯两者(zhe)能会形(xing)成(cheng)不大的(de)电(dian)(dian)位差,硅太阳什(shen)么的(de)光能干(gan)电(dian)(dian)芯的(de)p-n结会形(xing)成(cheng)并轨,而使造成(cheng)的(de)电(dian)(dian)阻效(xiao)率(lv)和效(xiao)率(lv)输人起飞。
以下模子是由[1]提出的:
模组中来源于的(de)高场强(qiang)原因分(fen)析Na+漂(piao)移经过发展SiNx层。钠化合物(wu)在SiNx/Si介面(mian)(SiOx)竖(shu)向不(bu)(bu)集中,并(bing)装潢(huang)了(le)重重叠叠不(bu)(bu)足。pn结通过线(xian)程(cheng)池超高装潢(huang)的(de)聚(ju)积(ji)断层线(xian)的(de)弱项状态(tai)被分(f🐎en)离(li)(线(xian)程(cheng)池1),的(de),这(zhei)是因为消耗殆(dai)尽(jin)区的(de)弊端的(de)现象的(de)合拼多线(xian)程(cheng),J02带来(阶(jie)段2)。请(qing)关注着,Na亚铁离(li)子应(ying)是出自(zi)Si看上去而不(bu)(bu)再(zai)是玻璃窗。
是以(yi),控(kong)制(zhi)模块的易理性主义至(zhi)关重要(yao)决🌜定于SiNx层和钢化玻璃和EVA箔(bo)的阻值(zhi)率。
[1] V. Naumann et al., The role of stacking faults for the formation of shunts during potential induced degradation (PID) of crystalline Si solar cells, Phys. Stat. Solidi RRL 7, No. 5 (2013) 315-318