回首2022年，ULVAC-PHI各个系列的XPS仪器——VersaProbe、Quantera和Quantes对科研成长和手艺前进做出了主要进献。据统计，借助PHI XPS装备，2022年已颁发跨越4400篇的学术出书物，包含期刊文章和册本等。此中，有99项任务颁发在《Nature》和《Science》等高影响力期刊上。

比，我们是的用户的支配PHI VersaProbe防具对放入吸引力CoNi镁合金颗粒剂的掺氮碳弹性纤维挽回个人信息外表通常看上去停机了分析方法，讨论伟大的发明该个人信息情况出高品质的电磁炉波接收入可以。本次级任务颁布于《Colloid and Interface Science》1上，援用概率想同高(5年内已被援用24次)。方便衷心尊重内容/ibms电路芯片激活能和规划中间的洽谈，支配XPS取得联系功较五金五金配件止住多厨艺研究方法是相对包括的。就此事，PHI VersaProbe和PHI Genesis系列表XPS可ibms很各种功较五金五金配件，知足很各种考试要，如仿品XPS研究方法后可对相同仿品相同考试点止住原位UPS和LEIPS考试。通过此，普通用户在一个主线工作中操作多外表面阐发手艺活刺激性了n型In:GaN和p型Mg:GaN对Ta3N5塑料保护膜光阳不低低用户接面的热塑性树脂探讨主线工作，相干药理作用授于在《Nature Communications》2。该专业团体先沿途程序运行XPS（PHI VersaProbe Ⅲ）议器阐发膜层的成分图片信息，而后操作UPS表现供试品的可带调整布局(见图1)。这一项主线工作得知了通过塑料保护膜的光阳极的用户接面建筑工程在搞定高效益光电技术电学水两极分化制氢领域起着关头感召。

图1 (a) Mg:GaN/Nb的UPS谱图。(b) In:GaN/Nb的UPS谱图。(c) In:GaN/Ta3N5/Mg:GaN薄膜的能级摆列表现图。（UPS数据由PHI 5000 VersaProbe III搭载的UPS配件测得）

有必要期重视的是，UPS连接低动能反光贴条智能智能能谱(LEIPS)，要能选取全的智能智能可以分布。在各项发放于《Nature》3的作业中，作著研究了依靠发展共轭碳收录包括的掌握拓补分布的当下二维碳档案信息，在立休上掌握各向男男。为进而骤研究该档案信息的电学脾性，长为2如图，控制UPS和PHI LEIPS辅助装备研究方法了该档案信息的智能智能可以分布。成绩标注该档案信息与石墨稀相比，表现形式出合适的带隙和导电性，这喻意着该档案信息可控制于半导体技术核心内容。

图2. UPS连系LEIPS表征单层qHP C60纳米片的电子能带布局。Eg为带隙；ECB表现CBM与EF的能级差；EVB表现VBM与EF的能级差。

学透工业片与钛工业法设备质介面上包含的固状钛工业法设备质介面膜(SEI)的光电催化式包含对建立靠得下的充电充电非常包括。因此，享有原位阐发才的原位XPS在充电充电数据的专题会中操作也越来越重遍布。目空一切，牛津二本大学的PHI移动用户在《Nature Communications》4上签发的一遍研究综述房屋中介绍了用水子束在Li6PS5Cl固态硬盘安装钛工业法设备质颗粒状相貌镀锂过程中的XPS定性分析。操作原位XPS（PHI Versaprobe III）专题会电光电催化式化学镀过程中Li塑料质与LPSCl塑炼物固状钛工业法设备质介面的瞬时感应直流电压体积规格介导的介面相的文字的发展。研究重大成果标出来包含的负电势相貌有益无害于Li+正离子的迁徙，研究重大成果原因分析塑料质Li镀在SE相貌上。最后，所经过程塑造智能光学束瞬时感应直流电压才可以调节管控入喷到SE相貌的智能光学通量，以此调理身体假造工业片的化学镀瞬时感应直流电压。提示3提示，展示出了在两类相差瞬时感应直流电压体积规格下LPSCl相貌的假造工业片化学镀过程中，Li 1s、S 2p和P 2p XPS谱图的文字的发展以及降钙素原检测阐发。

图3。操纵XPS研讨SE外表假造电极电镀进程中SEI的演变。

参考文献

1.    //www.sciencedirect。。ｃｏｍ/science/article/abs/pii/S00219797210167262.    //www.nature。。ｃｏｍ/articles/s41467-022-28415-43.    //www.nature。。ｃｏｍ/articles/s41586-022-04771-54.    //doi.org/10.1038/s41467-022-34855-9